6H-SiC衬底上SiCGe薄膜的生长特性研究,林涛,李佳,采用低压热壁化学气相沉积法,在6H-SiC衬底(001)面上生长了不同温度(1100℃~1250℃),不同GeH4流量比(13.8%~44.4%)的SiCGe薄膜样品,研究��