Si含量对TiSixNy超硬涂层结构和性能的影响,陆永浩,李明星,本文采用四靶(2个Ti靶和2个Si靶)非平衡磁控溅射沉积工艺,在氮氩混合气氛和500℃基体温度下,通过调节硅靶溅射电流在单晶Si(100)�