脉冲直流PCVD技术在盲孔底部沉积Ti-Si-N薄膜,马大衍,,用脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)技术在盲孔的底部获得Ti-Si-N薄膜。用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能量色散谱仪(EDX)、