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射频反应溅射制备AlN薄膜的研究,希望对大家有用
溅射ZnO薄膜钝化GaAs表面性能的研究
采用射频磁控溅射法制备氧化钒(VOx)薄膜,研究溅射功率对氧化钒薄膜结构、光学及力学性能的影响。利用表面轮廓仪、X 射线衍射仪、原子力显微镜、分光光度计、椭偏仪及纳米压痕仪分析在不同溅射功率下制备的氧
采用射频磁控溅射法,在K9 抛光玻璃基底上沉积氧化钒(VOx)薄膜,研究在其他参数保持不变时氧分压参量对薄膜的结构、表面质量及透光性能的影响。利用表面轮廓仪、X 射线衍射仪、原子力显微镜及分光光度计分
为了考察BCN薄膜的高温抗氧化,用反应磁控溅射方法在高速钢基体上制备了BCN硬质薄膜材料,用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电镜(HRTEM)、扫描电镜(SEM)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)和显
采用自制掺摩尔分数12%的Y2O3的ZrO2混合颗粒料为原料,在不同的沉积温度下用电子束蒸发方法沉积氧化钇稳定氧化锆(YSZ)薄膜样品。利用ZYGO Mark III-GPI数字波面干涉仪对氧化钇稳定
主要阐述了脉冲激光沉积(PLD)技术在制备金属氧化物方面的物理过程和技术特点, 详细介绍了脉冲激光沉积制备二氧化钒(VO2)薄膜的工艺参数和国内外研究进展, 并与几种常规制备方法进行了对比, 给出了脉
利用反应离子束溅射、反应磁控溅射和电子束蒸发在K9基底上沉积ZrO2薄膜,并用原子力显微镜对薄膜表面形貌进行测量。通过数值相关运算,对不同工艺条件下薄膜生长界面进行定量描述,得到了薄膜表面的粗糙度指数
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多孔硅表面磁控溅射沉积钛膜的形貌研究，展长勇，蒋稳，采用磁控溅射的方法来分别在随机刻蚀的多孔硅和孔径2.5 μm、12 μm、15 μm的多孔硅阵列上沉积钛膜。分别讨论了加偏压和不加偏压条件�
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