论文研究 冲击厚度对酞菁镍薄膜结构和电特性的影响

通过蒸发技术已经制备了厚度为（50-350 nm）的酞菁镍薄膜。 XRD研究表明，对于具有（100）取向的低厚度薄膜，其薄膜具有单晶结构，并且微晶尺寸随厚度增加而增加。 同样从用于NiPc膜的AFM技术中，确定了粗糙度，并且晶粒厚度随着厚度的增加而增加，从350nm的厚度开始。 对微晶的电学性质，形态和取向的研究对于理解和预测膜的性质非常重要，对于其在太阳能电池和传感器中的成功应用至关重要。 研究了不同厚度的这些薄膜的电学性能，NiPc具有三种活化能。 计算出载体的浓度和迁移率。 霍尔测量表明，所有薄膜均为p型。