烧结温度对SiO2-TiO2薄膜亲水性的影响, 夏添,郭宪英,为了确定SiO2-TiO2薄膜制备过程的最佳烧结温度,实验将不同SiO2与TiO2掺杂比的样品分别在400°和500°下煅烧,然后进行与水的静态接触角测