氢气氛围下退火对氧化镓薄膜性质的影响,牛成军,夏晓川,采用MOCVD制备了ε-Ga2O3薄膜样品,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外可见分光光度计和半导体特性分析仪等表征手段�
提出一种分析微波等离子体化学气相沉积工艺条件对金刚石薄膜的组成和光学性质影响的方法。采用红外椭圆偏振光谱仪来分析Si衬底上金刚石薄膜的组成和光学性质,研究微波等离子体化学气相沉积法生长条件和退火工艺对
Si含量对TiSixNy超硬涂层结构和性能的影响,陆永浩,李明星,本文采用四靶(2个Ti靶和2个Si靶)非平衡磁控溅射沉积工艺,在氮氩混合气氛和500℃基体温度下,通过调节硅靶溅射电流在单晶Si(10
基体对TiO2薄膜晶相的影响,盖卫卓,邓振炎,通过向多孔玻璃和金红石相TiO2基体渗透钛酸正丁酯溶液,干燥、在550oC煅烧,得到两种TiO2薄膜。在玻璃基体上制备的TiO2薄膜具有锐钛矿�
温度和尺寸对共溅射沉积碲化铋薄膜电性能和热电功率的影响
不同的退火气体对FTO衬底上生长的CuO薄膜的生长和光电流性能的影响
局域结构畸变对Co2FeAl0.5Si0.5合金薄膜中磁有序的影响,叶双莉,翟敏,本文通过磁控溅射与原位真空退火,制备了一系列的Heusler合金Co2FeAl0.5Si0.5(CFAS),退火温度分
由于有机电致发光器件(Organic light-emitting devices,OLEDs)的主动发光、高亮度等优点,在显示和照明领域有极大的应用前景。报道了纳米ZnO薄膜对这种发光器件性能的影响
采用反应射频磁控溅射技术,通过调整溅射靶面上金属Er和Yb的面积比例制备出了不同Yb含量的Er/Yb共掺Al2O3薄膜,重点探讨了薄膜制备过程中Er、Yb成分比例控制的可靠性及Yb的掺杂浓度对Er/Y
裂解温度对硅氧碳纳米镶嵌复合薄膜氧空位的形成及其发光性能的影响,姚荣迁,郑鸿飞,通过先驱体熔融纺膜法纺出连续聚碳硅烷(PCS)原膜,对其进行10h氧化交联及900预烧后,分别在1050℃、1100℃、