SOI光波导具有单晶硅材料的优势,又具有高折射率对比度,同时与CMOS工艺完全兼容。随着纳米光子学及微加工工艺的发展,基于SOI材料的光电器件的单片集成成为光电子产业的重要发展方向。而高性能硅基光波导器件的实现依赖于超低损耗的光波导结构单元,光能量沿波导表面以倏逝场形式传输,波导的结构尺寸、传输模态、表面粗糙度等是影响光传输损耗的重要因素。因此,通过研究SOI光波导的传输特性与制备过程从而实现超低损耗的SOI光波导,具有重要的科学意义及应用价值。