粟鹏义1, 陈开盛2,曹庄琪1(1.上海交通大学,上海,200052 ; 2.上海光刻电子科技有限公司,上海,200052)摘要:介绍了集成电路行业中在光刻版数据处理时的工艺涨缩问题,分别讨论了正涨缩和负涨缩问题,涨缩与反转处理的次序问题,尤其对位于版图边沿图形的涨缩进行了详细的讨论,并且提出了一种电子设计自动化软件的解决方案和实际结果。 关键词:光刻版;光刻;电子设计自动化;集成电路 中图分类号:TN305 文献标识码:A 文章编号:1003-353X(2003)07-0020-031引言 集成电路(IC)是现代信息技术的核心和电子整机的心脏。硅基集成电路的平面工艺和图形光刻仍然是当今大规模