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利用两种聚合物合成改性手段制备了纳米颗粒SiO2掺杂PMMA溶胶,并采用旋涂法甩膜制得PMMA改性聚合物薄膜。通过分析薄膜样品在红外和可见光波长范围内的光损耗特性,优化了制备工艺,使其在提高热稳定性的
掺杂GaSb薄膜的光学性质，刘雪，王登魁，采用分子束外延技术在GaAs衬底上异质外延N型Te-GaSb薄膜，用低温光致发光谱分析掺杂对GaSb薄膜发光的影响。对于N型Te-GaSb，Te原子会占据S
开关损耗 MOS 开关损耗的组成 开关功耗 PS 对感性负载 通态功耗 PON 断态损耗 POFF 一般忽略 驱动损耗 PGATE 根据不同器件确定 吸收
偶氮金属镍(Ni(azo)2)是一类具有很大潜力的可录光盘存储介质。为了准确地获取一种偶氮金属镍薄膜的光学常数,用旋涂法(Spin-coating)在单晶硅片上制备了Ni(azo)2薄膜。在波长扫描和
由于在高光学深度下,比尔-朗伯特(Beer-Lambert)定律的线性近似不再成立,波长调制光谱(WMS)中常用的偶次谐波探测失效。比较研究了适用于高光学深度的对数光谱方法和比值方法,理论研究了这两种
激励光辐照薄膜的表面热透镜效应中,调制频率的大小影响样品内热波的热扩散深度。通过频率控制热波扩散深度可以探测不同薄膜层面的吸收和热缺陷分布。理论分析了不同薄膜厚度下调制频率对热扩散深度的影响。结果表明
光学格子中孤子传输的损耗影响及其补偿研究，李怀，曾云凌，通过研究Kerr非线性光学格子中(即具有折射率周期性调制结构)高斯光束的演化，利用解析和数值的方法分析了介质损耗对形成格子孤子传
用热蒸发和磁控溅射的物理镀膜方法和溶胶凝胶化学涂布的方法相结合制备了有机和无机复合纳米光学变色薄膜。光学变色薄膜为多层薄膜,当有自然光进入光学变色薄膜时,随着入射光和视角的变化在薄膜上可以看到明显的光
日立中心研究实验室利用溅射在氧化镁基片上2微米厚的YBa2Cu3O7层,制成超导薄膜光学开关,这种薄膜陶瓷是最近发现的高温超导化合物之一,在85 K和3000安/厘米2最大电流密度下电阻消失。该组 把
锗和一氧化硅是中波红外区域通常使用的薄膜材料, 研究这些材料的特性, 找到最佳制备工艺并拟合出材料的光学常数, 是设计制备中波红外光学薄膜的关键。最佳工艺条件下, 选用以上两种材料, 以蓝宝石为基底,
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