美国光谱技术公司研制出一种高亮度激光等离子体源,用于集成电路的χ射线光刻术的快速生产。该法可能使晶片生产效率大大提高。目前,在集成电路平版印刷术中紫外线法占统治地位,然而该技术无法满足亚微米线宽的要求。虽然在短期内电子束源似乎有希望,然而对于大多数应用来说,它们太慢、太笨重。显然X射线光刻术是未来的方向。