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1978年的经典书籍《光学自动设计程序汇编》扫描版,介绍了光学基本原理、像差概念,并为利用程序优化提供解决方法。
Sb掺杂ZnO薄膜电学、光学性能的研究,丁萍,潘新花,采用氧等离子体辅助脉冲激光沉积(PLD)法,在n-Si(001)衬底上制备出性能良好的Sb掺杂p型ZnO薄膜,其电阻率为44.18Ωcm,空穴浓度
通过射频磁控溅射在硅(1 0 0)衬底上沉积多晶Zn(1-x)Eu(x)O(x = 0,0.02,0.05)薄膜。 研究了薄膜的结构,光学和磁性。 X射线衍射和光致发光光谱的结果都表明Eu(3+)离子
利用考夫曼离子源辅助电子束蒸发(IBAD)在K9 玻璃上制备了HfOsub>2 薄膜。采用DX-2000 型X 射线衍射仪(XRD)对薄膜晶体结构进行分析得知制备的薄膜呈现单斜晶相结构。采用SE
用单波长椭圆偏光仪与分光光度计相结合,构成一种简便实用的测量方法,可以测出常用介质薄膜在任一波长的折射率。分析指出,适当选择薄膜的位相厚度,可使折射率测量误差<1×10~(-2),这对通
为了进一步明确氟化薄膜材料在深紫外-紫外波段(DUV-UV)的光学常数, 研究了深紫外-紫外波段常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料, 分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了3种高
降低薄膜的吸收对于氧化物薄膜在深紫外波段的应用具有重要意义,为此采用离子束溅射方法分别制备了用于深紫外波段的Al2O3和SiO2薄膜,利用光度法和椭圆偏振法相结合,计算得到其在190~800 nm范围
李正中版薄膜光学与镀膜技术高清版PDF光学镀膜权威书籍
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双光束双波长激光干涉(DDI)法采用自行设计的可调双波长氦氖激光器作光源,可在同一光路中通过两次测量获得薄膜样品两个波长(0.633 μm,3.39 μm)下的光学常数,即折射率、消光系数和厚度。论述
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