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为了进一步明确氟化薄膜材料在深紫外-紫外波段(DUV-UV)的光学常数, 研究了深紫外-紫外波段常用的6种大带隙的氟化物薄膜材料, 分别在熔石英(JGS1)基底和氟化镁单晶基底上用热舟蒸发镀制了3种高
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术在制备高激光损伤阈值的激光薄膜和渐变折射率结构的光学薄膜方面有独特的优点。通过大量的工艺研究,人们掌握了调控光学薄膜材料折射率和降低消光系数的方法。目前已知薄
深紫外非线性光学晶体KBBF的研究进展
概述了真空紫外(VUV)波段光学薄膜及薄膜材料的研究进展,金属Al膜因到短至80nm还能提供较高的反射率而得到普遍关注,在高真空和30 nm/s左右沉积速率下沉积了保护层的金属Al膜在157 nm处反
降低薄膜的吸收对于氧化物薄膜在深紫外波段的应用具有重要意义,为此采用离子束溅射方法分别制备了用于深紫外波段的Al2O3和SiO2薄膜,利用光度法和椭圆偏振法相结合,计算得到其在190~800 nm范围
第一部分简单的介绍了光学薄膜的研究历史,光学薄膜的应用及其现状和前景; 第二部分叙述了光学薄膜的理论; 第三部分介绍了模拟退火优化算法理论; 第四部分阐述了光学薄膜的设计; 最后第五部分是对本文的总结
经过了最近二百年来人类的努力,光学薄膜已经成为现代光学的重要组成部分。现在,人们都认识到没有光学薄膜,就没有现代的光学仪器。在这二百多年的发展过程中,光学薄膜已经建立了一整套完整的光学理论——薄膜光学
利用干涉技术及薄膜光学对光学薄膜参数进行测试
用横向光热偏转技术研究光学薄膜的吸收损耗.结果表明:对ZrO2、MgF2、ZnS等单层膜,薄膜-基底界面吸收、空气-薄膜界面吸收以及薄膜体内吸收三者处于同一量级,而对TiO2、Ta2O5、SiO2等样
半导体光刻技术带动着光源逐步向短波辐射方向发展,以KrF-248 nm、ArF-193 nm光源为代表的准分子激光光刻光源逐步取代了以往基于汞灯的光刻光源,成为当前半导体光刻技术发展的主流光源。目前应
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