暂无评论
PECVD沉积参数对硅薄膜生长速率的影响，王志辉，强颖怀，高效、稳定、廉价的多晶硅薄膜太阳电池有可能替代非晶硅薄膜太阳电池成为新一代无污染民用太阳能电池。传统等离子体化学汽相沉积
磁控溅射方法制备In2O3透明薄膜晶体管，张莹莹，王雄，采用磁控溅射方法在玻璃衬底上生长了In2O3晶体薄膜。该薄膜具有（111）晶面择优取向，晶粒尺寸达到33 nm。利用光刻工艺制作了以In2O3晶
采用脉冲激光溅射沉积技术在LaAlO3(001)衬底上制备了一系列不同厚度(40~240 nm)的La0.67Ba0.33MnO3薄膜。通过控制薄膜的厚度,获得了不同应变态的La0.67Ba0.33M
为了研究Co掺杂及掺杂浓度变化对ZnO薄膜结构及光学性能的影响,本文采用溶胶-凝胶法在石英玻璃衬底上制备了不同Co掺杂浓度的ZnO薄膜。通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜、傅里叶变换红外光谱仪、二维傅
利用射频磁控溅射法在(LaAlO3)0:3(SrAl0:5Ta0:5O3)0:7 (001) 单晶基底上生长了镧掺杂BaSnO3 外延薄.膜. 通过Hall 效应和热电势测量证实了镧掺杂BaSnO3
采用射频磁控溅射法,在K9 抛光玻璃基底上沉积氧化钒(VOx)薄膜,研究在其他参数保持不变时氧分压参量对薄膜的结构、表面质量及透光性能的影响。利用表面轮廓仪、X 射线衍射仪、原子力显微镜及分光光度计分
磁控溅射和后退火法制备的FeAu / FePt交换弹簧介质
原子层沉积制备TiN薄膜对三维MIM电容器的影响
用脉冲激光沉积(PLD)方法在Si(111)衬底上制备了ZnO薄膜。以325 nm He-Cd激光器为光源对薄膜进行了荧光光谱分析,用X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)分别对薄膜的结构和形
用离子束溅射沉积的方法制备的TiO2、ZrO2薄膜的光吸收损耗明显降低,对其折射率、光吸收和抗激光损伤阈值等特性进行了分析.
暂无评论