采用 3 kW 高功率半导体激光器,在 45 钢基体上制备不同 WC 含量(质量分数 20%~80%)的 WC-NiSiB 复合涂层,用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)及 X 射线衍射(XRD)对熔覆层的微观组织、成分分布及物相进行表征,并测试涂层试样的硬度与耐磨性能。结果表明,激光熔覆 WC-NiSiB 复合涂层组织主要由γ-Ni、WC、W2C、WB、W2B、Ni4B3及 Ni4W 等物相组成,熔覆层与基体形成冶金结合。涂层与基体的结合区,从熔合线开始逐渐向上的组织依次为垂直于界面的胞状晶、柱状晶和枝状晶,熔覆层中部为沿一定方向生长的树枝晶,表层为异向生长的细小树枝晶。随 WC 颗粒含量增加,涂层中 WC 颗粒分布更加密集。WC 含量为 60%时,WC 颗粒分布均匀致密,熔覆层无裂纹,熔覆层的硬度最高达到 1291 HV,为 NiSiB 合金层硬度的 2.7 倍,耐磨性是 NiSiB 合金层的 6.8 倍。