钴硅化物薄膜的快速淀积外延生长的原子模型模拟,石浩,于民,钴硅化物作为大规模集成电路的接触等应用而收到关注。本文给出了一种新的模拟CoSi2薄膜的快速淀积外延(RDE)试验的方法。模型采用�