半导体工艺-离子注入和快退火工艺

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脉冲激光退火技术从2074年问世以来一直被认为是一种热处理方式。皮秒范围内的超短脉冲退火可以用热模型解释。飞秒或脉宽更短的超短脉冲激光可以直接通过电子激发来实现晶格结构的改变,在低于熔点的情况下完成退

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半导体工艺和器件仿真工具++Silvaco+TCAD+实用教程

整理：Anndi来源：电子胶水学习指南（www.g4e.cn）本人主要从事IC封装化学材料（电子胶水）工作，为更好的理解IC封装产业的动态和技术，自学了《芯片制造－半导体工艺制程实用教程》，貌似一本不