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碳掺杂ZnO薄膜中的缺陷诱导铁磁性
通过射频磁控溅射在硅(1 0 0)衬底上沉积多晶Zn(1-x)Eu(x)O(x = 0,0.02,0.05)薄膜。 研究了薄膜的结构,光学和磁性。 X射线衍射和光致发光光谱的结果都表明Eu(3+)离子
非磁性Mg掺杂ZnO薄膜中的稳健室温铁磁性和带隙调谐
共掺杂ZnO薄膜中铁磁性的掺杂浓度和退火温度依赖性
铁磁性物质的磁特性随温度的变化而改变,当温度上升至某一温度时,铁磁性材料就由铁磁状态转变为顺磁状态,即失掉铁磁性物质的特性而转变为顺磁性物质,这个温度称为居里温度,以Tc表示。居里温度是磁性材料的本征
室温下溅射功率对射频溅射ZnO薄膜性能的影响
ZnO现在是用于发光或透明电子导体的迷人半导体氧化物材料。 通过直流溅射技术,我们在多孔硅上沉积了ZnO薄膜,多孔硅被称为基于硅的发光材料。 在室温下进行沉积,然后对样品进行退火以提高ZnO的结晶质量
薄膜表面形貌定量研究有助于薄膜生长机理的认识。研究的薄膜是用激光脉冲沉积法(PLD)制备的ZnO:Ga(GZO)透明导电薄膜。由于GZO薄膜的生长是在远离平衡态情况下实现的,具备自仿射分形特征,可以用
为研制真空紫外与极紫外波段Al基薄膜光学元件,详细研究了Al基薄膜的应力特性及其优化方法。利用应力实时测量装置对共溅射技术制备的5种不同Si掺杂质量分数(0、8.97%、16.49%、28.46%、4
掺杂碱金属的AlP中的铁磁性:从头算研究
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