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东芝公司用准分子激光器和石英透镜的十分之一缩小光学系统,制成电路线宽为0.35 μm、大小为5 mm见方的图案。估计用这一技术并改进原有的曝光技术,对如工64 M DRAM (动态存储器)(电路线宽2
以准分子激光在软性材料上制作图案
83年11月,商用准分子激光器取得一些关键性技术进展。XMR公司的XeCl激光器获得200瓦输出,重复频率500赫。寿命超过500万次,无需充气或擦洗。公司还宣布其用于半导体工业的准分子激光微加工中心
收稿日期:1980-10-20
本文报道一台新颖的双通道放电泵浦的准分子激光器,采用折叠式光路构成一个较长的激光腔(2m),同时适当拉长放电时间,获得了150ns、150mJ的激光输出。
由于美国GCA公司集成电路系统组采用4600 L型图形发生器,使激光进一步“侵入”半导体生产工艺。这种系统弥补了紫外弧光灯和电子束系统的缺陷,可望比紫外弧光灯速度快得多,而比电子束系统便宜得多。
靶面焦斑合束数值模拟研究可为准分子激光角多路系统建设提供重要参考。首先介绍了靶面激光焦斑合束的计算方法,进而基于单束激光焦斑形态和光束指向稳定性开展了18束准分子激光靶面合束计算,给出了合束焦斑的形态
半导体工程师寻找有用的自显影光刻胶已有多年。这种光刻胶可用于半导体加工过程中很少几个阶段,可能节约生产成本。虽然已研究过几种这类材料,但它们都有一种或多种问题,诸如副产品有毒、曝光需要高强度辐照量、化
本文报导了我们利用KrF和XeBr的准分子激光对三种紫外染料:对二苯基苯、1.4-二苯基丁烷和ΠΟΠ,进行了泵浦的结果。在实验中我们测验了泵浦能量转换成染料激光辐射的效率,以及在利用简单的色散共振腔时
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