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本发明提出一种用于多晶硅副产物四氯化 硅处理的脱酸器，包括：脱酸器本体，所述脱酸器 本体内限定有脱酸腔，所述脱酸器本体的上部设 有尾气出口和脱酸器出料口，所述脱酸器本体的 下部设有脱酸蒸汽入口和脱酸器
分析讨论了聚焦的TEACO2激光辐照BCl3-O2体系分离硼同位素的反应产物和机制.BCl3和O2反应的稳定产物为B2O3,未发现(BOCl)3.实验还表明,在强红外激光作用下,BCl3与氟脂发生光化
三氯氢硅合成尾气的综合回收
介绍了湿法洗涤工艺在三氯氢硅生产中的应用效果,对设备的选型、工艺参数确定、操作工艺进行了分析,通过增加洗涤工艺,可有效去除金属氯化物和细微硅粉,解决一级冷凝器频繁堵塞、操作环境恶劣、不能连续生产等问题
化学气相沉积(CVD)过程中的电子气体用来生成沉积薄膜;CVD 是利用真空状态下,多种气体混合并发生化学 反应最终将反应物沉积成膜的过程。不同的沉积薄膜需要不同的电子气体,在 SiO2 的沉积中,会使
在半导体的生产中,大宗气体和电子特气都有应用。大宗气体主要包括空分 气体中的氧气、氮气,品种少、用量大,对纯度要求不高(99.99%左右甚至是普 通纯度),可用于助燃、防氧化等,供应方式以现场制气、集
改进型三氯氢硅合成工艺初探
介绍了河北邢矿硅业科技有限公司2万t/a变压吸附法三氯氢硅生产中尾气回收装置遇到的异常情况、产生原因及采取的技改措施。
电化学氯化法合成3-2-氯-5-(2-氯-4-三氟甲基苯氧基)苯甲酸，张宏霞，刘波，本文系统研究了2-氯-5-(2-氯-4-三氟甲基苯氧基)苯甲酸（S1）的电化学氯化反应，即以无机氯化物为电解质，在电
针对传统除B、P方法的不足,研究了树脂吸附法除B、P技术。重点介绍了树脂除B、P的工艺流程、树脂装填操作及安全生产注意事项,研究了进料温度、进料流速对除B、P效果的影响。
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