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烧结温度对SiO2-TiO2薄膜亲水性的影响， 夏添，郭宪英，为了确定SiO2-TiO2薄膜制备过程的最佳烧结温度，实验将不同SiO2与TiO2掺杂比的样品分别在400°和500°下煅烧，然后进行与水
采用射频磁控溅射技术,在石英玻璃基板上沉积Li-W共掺杂ZnO(LWZO)薄膜。 研究了在不同衬底温度下沉积的LWZO薄膜的特性。 基板温度低于120°C时C-根据X射线衍射(XRD)模式,薄膜以(0
采用激光脉冲沉积法在Si(100)衬底上生长ZnO薄膜,衬底温度分别为室温,200 °C,300 °C,400°C和500 °C。用X射线衍射仪、拉曼光谱、扫描电子显微镜对薄膜的微结构进行了测量,并测
添加Dy对YBCO薄膜的影响，张红，王文涛，YBa2Cu3O7-δ（YBCO）涂层导体在大规模的应用上具有瞩目的前景，但是其在高温高场下低的电流输运特性始终是应用的关键性问题。因此提�
溅射功率对ZnO:Ga薄膜的结构和光电性能的影响
研究了基体预热对激光沉积修复GH4169合金试样的残余应力、组织和拉伸性能的影响。结果表明,基体预热至300 °C的GH4169合金试样,残余应力x向分力σx的平均降幅为59.4 MPa,降低了11.
通过在掺杂氟的氧化锡(FTO)涂覆的玻璃基板上共电沉积Cu-Zn-Sn-S前驱体,然后在硫气氛中进行硫化,合成了富含稀土的Cu2ZnSnS4(CZTS)薄膜光伏吸收剂。 在本文中,我们研究了沉积电势对
利用ANSYS 有限元中的“生死单元”技术,在基板修复区和近修复区施加不同预热温度,模拟分析激光沉积修复过程温度场的影响规律;利用感应加热装置对TA15 基板进行不同距离、不同基板厚度以及不同感应加热
本规则适用于意向在微波电路与系统研究所加工生产薄膜电路基片产品的相关 人员,主要作为设计师设计薄膜电路基片产品的参考。
沉积时间对Al-Mg合金的形貌、组分和防腐性能的影响，张浩，骆佳秋，本文研究了在AlCl3-NaCl-KCl-MgCl2体系中，在钨丝表面电沉积Al-Mg合金镀层，作为Z-箍缩负载材料。通过扫描电子显
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