为了考察BCN薄膜的高温抗氧化,用反应磁控溅射方法在高速钢基体上制备了BCN硬质薄膜材料,用X射线衍射仪(XRD)、高分辨透射电镜(HRTEM)、扫描电镜(SEM)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)和显
用离子束溅工艺在K9玻璃基片上沉积Ti薄膜,并用原子力显微镜对其表面形貌进行测量,通过数值相关运算,发现在此工艺条件下薄膜生长界面为各向同性的自仿射分形表面,并用粗糙指数、横向相关长度和标准偏差粗糙度
MOD法制备SrTiO3薄膜研究,陈文祥,丁灵效,本文采用金属有机物沉积(MOD)方法在双轴织构的Ni-5at%W合金基带上制备YBCO超导带材的SrTiO3(STO)缓冲层。研究了退火温度以及单层薄
采用化学氧化聚合法,以氯仿为溶剂、无水氯化铁为氧化剂,制得了聚噻吩样品,使用傅里叶变换红外光谱仪、紫外可见漫反射光谱仪和高阻计对样品结构和电导率进行了分析测试,考察了噻吩浓度(0.050.20mol/
高密度储能电容器是当前研究的热点,为探究氧化铝薄膜在高密度电容器中潜在的应用,采用直流磁控溅射方法制备了氧化铝薄膜,薄膜质地均匀致密,表面平整光滑。X射线衍射谱分析表明制备的薄膜属于γ晶型的氧化铝。薄
紫外激光辐照对非晶IZO薄膜电学性质影响,夏鹏,马剑钢,本文采用溶胶-凝胶法,结合深紫外激光辐照处理,在石英玻璃衬底上制备了非晶铟锌氧(IZO)透明导电薄膜。通过X射线衍射仪、紫外-可
写于载氢光纤上的长周期光纤光栅经过高温退火后,对其进行紫外均匀曝光能够有效改变其耦合特性。随着曝光量的增加,其共振波长向长波方向移动,共振峰强度先增大继而减小。并对此给出了理论解释。
硅处理对紫外辐射下大豆幼苗生理特性的影响,沈雪峰,董朝霞,本文以大豆中黄35为试验材料,采用室内水培法,研究了施硅处理对紫外辐射(UV-B,280~320 nm)下大豆幼苗生长发育、硅元素含量与分布
ZnO和ZnS纳米复合材料的水热法制备,张存磊,席珍强,以Zn(NO3)2o6H2O和NaOH为原料,利用水热法制备出花状的氧化锌。把氧化锌分散在硫代乙酰胺水溶液中,通过二次水热反应,制备出一种
溅射功率和退火时间对Ca2Si薄膜结构特性的影响,任雪勇,谢泉,采用射频磁控溅射技术在Si(100)衬底上制备出Ca2Si薄膜,研究了溅射功率和退火时间对薄膜的晶体结构、表面形貌的影响。X-射线衍射(