磁控溅射技术
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低能Ar加溅射诱导CeO2111薄膜还原
低能Ar+溅射诱导CeO2(111)薄膜还原,王国栋,孔丹丹,利用同步辐射光电子能谱(SRPES)原位、系统地研究了Ar+溅射对在Ru(0001)表面外延生长的CeO2(111)薄膜表面的电子结构和化
5 2020-07-19 -
论文研究溅射NiTiCu形状记忆膜的腐蚀行为
对于NiTiCu SMA,Ni原子被Cu原子取代,不仅大大降低了合金成本,而且具有出色的形状记忆效果。 使用磁控溅射制备了四种形状记忆合金膜(Ni49.6Ti50.4,Ni48.2Ti50.4Cu1.
19 2020-07-19 -
溅射离子源的初步调试(1993年)
介绍一种可适用于金属表面改性用的溅射离子源。采用双层热屏蔽套,在相同的引出总束流前提下,可相应减小灯丝加热功率。初步调试结果,引出的靶上总束流:氮离子达10mA;氩离子1mA;铜离子达10mA;钛离子
1 2024-07-09 -
离子束溅射氧化铪薄膜的能带特性
氧化铪是高激光损伤阈值薄膜领域内一种重要的高折射率材料,其禁带宽度和Urbach带尾宽度直接影响到薄膜的吸收和激光损伤阈值。针对离子束溅射沉积法制备的氧化铪薄膜,以基板温度、离子束电压、离子束电流和氧
20 2021-02-25 -
氧化物薄膜的离子束溅射沉积
用离子束溅射沉积的方法制备的TiO2、ZrO2薄膜的光吸收损耗明显降低,对其折射率、光吸收和抗激光损伤阈值等特性进行了分析.
13 2021-04-21 -
溅射ZnO薄膜钝化GaAs表面性能的研究
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14 2021-04-07 -
对蓝宝石衬底上射频溅射的PbTiO
使用射频溅射和组合靶在蓝宝石(α-Al2O3)基底上制备出了结构较好的PbTiO3薄膜,提出了一种利用透射光谱来简单有效地分析弱吸收薄膜的光学特性及与光学相关的其它物理特性的方法。得出了该薄膜在400
11 2021-02-21 -
溅射以太坊虚拟机EVM的实现源码
溅射:以太坊虚拟机(EVM)的实现
10 2021-02-01 -
直流溅射沉积在多孔硅上的ZnO薄膜
ZnO现在是用于发光或透明电子导体的迷人半导体氧化物材料。 通过直流溅射技术,我们在多孔硅上沉积了ZnO薄膜,多孔硅被称为基于硅的发光材料。 在室温下进行沉积,然后对样品进行退火以提高ZnO的结晶质量
48 2020-07-17 -
射频磁控共溅射制备LiLaTiZrO薄膜电解质
射频磁控共溅射制备Li-La-Ti-Zr-O薄膜电解质,农剑,徐华蕊,以Li0.33La0.56TiO3(LLTO)与Li7La3Zr2O12(LLZO)粉末靶材为溅射源,用射频磁控共溅射的方法制备L
13 2020-05-23
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