氧分压对ZnO薄膜结晶质量和光学特性的影响,董武军,张庆瑜,利用脉冲激光沉积技术,在同一沉积温度(750℃)、不同沉积气压的条件下,在Si(100)基片上制备了未掺杂的高c轴取向的ZnO薄膜。通过扫�
拉伸速率对β成核聚丙烯纤维结晶结构和拉伸性能的影响,刘忠柱,代坤,本文借助熔融指数仪和自制的卷取装置制备了纯的和含有β成核剂的等规聚丙烯纤维,用差示扫描量热法(DSC),广角X射线衍射法(WAXD)和
溅射功率对Ca2Si薄膜性质的影响,任雪勇,谢泉,采用射频磁控溅射技术在Si(100)衬底上沉积了Si-Ca-Si薄膜,并在高真空条件下对样品进行退火处理,直接生成立方相Ca2Si薄膜。研究了不
采用反应磁控溅射法制备二氧化钒(VO2)薄膜,并对其进行快速热处理(RTP)。主要研究500 °C快速热处理10、15、20 s工艺条件下VO2薄膜结晶状况和光电性能的变化。在20 °C~80 °C温
激光推力器性能优化是激光推力器研究的重要组成部分。受硬件条件的限制,激光推进领域激光脉冲时间波形对推力器性能影响的研究并未广泛展开。以两台CO2激光器的实际脉冲波形为基准,建立了两组激光能量输入模型,
直流诱导的高功率脉冲非平衡磁控溅射,牟宗信,贾莉,发表了直流诱导的高功率脉冲非平衡磁控溅射模式的现象和机制分析。常规圆形平面磁控靶与同轴线圈构成非平衡磁控溅射靶,同轴线圈
邹建和(深爱半导体有限公司,广东 深圳 518000)摘要:介绍了半导体晶片制造设备溅射机和溅射工艺对晶片碎片的影响,给出了如何减少晶片应力以达到少碎片的目的。关键词:溅射:辉光放电:溅射沉积功率中图
利用射频磁控溅射方法在玻璃和聚酰亚胺膜(PI)衬底上沉积了氧化铝质量分数为2%的掺铝氧化锌透明导电薄膜(ZnO∶Al)。系统地研究了不同衬底材料对薄膜的结构、电学以及光学性能的影响。分析表明,衬底材料
LLDPE吹塑薄膜的结构与性能,杨伟,单桂芳,研究了成核剂对LLDPE吹塑薄膜结晶结构,进而对薄膜的透明性和力学性能的影响。研究发现成核剂的加入使薄膜的晶核数量增加,结晶速�
将基材预热至100 °C和400 °C,采用激光沉积制造技术制备了直接过渡TA15/GH4169复合结构,研究了预热温度对TA15/GH4169微观组织、残余应力及显微硬度的影响。结果表明:基材预热对