采用射频反应磁控溅射系统,在K9双面抛光玻璃基底上制备氮化铝薄膜,通过实验测试并结合数值拟合计算研究了其他参数保持不变的条件下,沉积气压对其结构和光学性能的影响。薄膜的微观结构通过X射线衍射和原子力显微镜进行表征;利用光栅光谱仪测试了各薄膜样品的透射谱,在此基础上利用包络线法拟合分析得到了薄膜的折射率。结果表明,所获得的AlN薄膜样品呈晶态,其晶格属六方晶系,沉积气压增大对AlN薄膜的生长取向有一定影响。薄膜在可见光及近红外区域透明,表面平整、致密,结晶状况良好,薄膜的折射率和沉积速率均随沉积气压增大而减小。初步讨论和分析了沉积气压对结构和光学性能的影响机理。